Oficiálne zhrnutie · Nederlands
Čo je predmetom obstarávania?
300mm Dry Etch Platform bestaande uit een Process Module zoals hieronder omschreven: i. Conductor Dry Ether met ICP (Inductively Coupled Plasma) RF Source Power en Dual Bottom Bias capability (RF Bias + DC Pulse Bias aan 400kHz) ii. Deze Process Module moet het vermogen hebben om RF Bias en DC Bias te superponeren. Deze Process Module is bedoeld voor verschillende FEOL-toepassingen voor N2 technologie node en verder, in het bijzonder CFET (Complementary Field Effect Transistor) toepassingen inclusief maar niet beperkt tot CFET Nanosheet Etch, CFET Full Gate Etch en CFET Source/Drain Recess. Er moeten minimaal 6 procesmoduleslots beschikbaar zijn op het platform voor een mogelijke capaciteits- en functionaliteitsupgrade. Het platform moet minimaal 5 laadpoorten bevatten.
Orientačný strojový preklad. Rozhodujúci zostáva oficiálny súhrn.
Oficiálne zhrnutie · Nederlands
300mm Dry Etch Platform bestaande uit een Process Module zoals hieronder omschreven: i. Conductor Dry Ether met ICP (Inductively Coupled Plasma) RF Source Power en Dual Bottom Bias capability (RF Bias + DC Pulse Bias aan 400kHz) ii. Deze Process Module moet het vermogen hebben om RF Bias en DC Bias te superponeren. Deze Process Module is bedoeld voor verschillende FEOL-toepassingen voor N2 technologie node en verder, in het bijzonder CFET (Complementary Field Effect Transistor) toepassingen inclusief maar niet beperkt tot CFET Nanosheet Etch, CFET Full Gate Etch en CFET Source/Drain Recess. Er moeten minimaal 6 procesmoduleslots beschikbaar zijn op het platform voor een mogelijke capaciteits- en functionaliteitsupgrade. Het platform moet minimaal 5 laadpoorten bevatten.
Zadarmo
Získajte ďalšie zákazky v tomto odvetví
Každý týždeň dostanete e-mail s novými oznámeniami podľa vašich kritérií. Pred aktiváciou bezplatného upozornenia kritériá skontrolujte alebo upravte.
História oznámení
Časová os verejného obstarávania
Sledujte hlavné etapy a aktualizácie súvisiace s týmto postupom verejného obstarávania.
Zatiaľ sa nenašlo žiadne ďalšie súvisiace oznámenie.
Údaje sú upravené na ľahšie čítanie. Oficiálne oznámenie a súťažné podklady majú vždy prednosť.
Zdroj a spoľahlivosť
TED · 503557-2026. Overené 23. 8. 2026, 20:05.
Údaje sú upravené na ľahšie čítanie. Oficiálne oznámenie a súťažné podklady majú vždy prednosť.