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Amtlicher Titel · Deutsch

Upgrade of a 200 mm WxZ Tungsten CVD Chamber to WxZ Sprint Configuration

IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik · Deutschland

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Frist 07.07.2026 12:00 UTC+02:00
Geschätzter WertNicht angegeben
Veröffentlicht05.06.2026
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Amtliche Zusammenfassung

Was wird beschafft?

Gegenstand der Beschaffung ist das Upgrade eines bestehenden 200 mm Wolfram Chemical Vapor Deposition (CVD)-Systems des Herstellers Applied Materials Inc. (AMAT) auf eine WxZ Sprint Konfiguration. Hierzu sind insbesondere Anpassungen am Gasverteilungssystem zur Realisierung eines gepulsten Wolfram-Abscheidungsprozesses sowie die Integration zusätzlicher Hardware zur Ermöglichung von Depositionsdrücken bis 300 Torr erforderlich. Die Leistungen umfassen die Planung, Lieferung, Integration, Inbetriebnahme und Qualifizierung der erforderlichen Hard- und Softwareanpassungen am bestehenden Anlagensystem.

Bekanntmachungsverlauf

Zeitlicher Ablauf des Vergabeverfahrens

Verfolgen Sie die wichtigsten Phasen und Aktualisierungen dieses Vergabeverfahrens.

Bisher wurde keine weitere zugehörige Bekanntmachung ermittelt.

  1. Auftragsbekanntmachung Aktuelle Bekanntmachung

    · TED 386607-2026

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Die Daten werden für eine leichtere Lesbarkeit neu strukturiert. Maßgeblich sind stets die amtliche Bekanntmachung und die Vergabeunterlagen.

Quelle und Verlässlichkeit

TED · 386607-2026. Geprüft am 22.08.2026, 18:05.

Die Daten werden für eine leichtere Lesbarkeit neu strukturiert. Maßgeblich sind stets die amtliche Bekanntmachung und die Vergabeunterlagen.

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