Uradni povzetek · Deutsch
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Die Ruhr-Universität Bochum beabsichtigt eine DRIE Ätzanlage zu beschaffen, die im Forschungslabor Mikroelektronik Bochum für Wafer-Substrate bis 200 mm Durchmesser eingesetzt werden soll. Sie soll auf dem Gebiet der Silicium-basierten Mikro-Elektro-Mechanischen Systeme (MEMS) für das tiefe anisotrope Siliciumätzen auf Basis eines zyklischen Ätzprozesses (DRIE, "BOSCH-Prozess") eingesetzt werden und darüber hinaus der Erforschung neuer Ätzkonzepte dienen, die weniger klimaschädliche Ätzgase nutzen.
Vir in zanesljivost
Vir: uradno obvestilo TED 562332-2026, nazadnje preverjeno 21. avg. 2026 21:05. Odločilna ostaja izvirna objava.
Podatki so preurejeni za lažje branje. Uradno obvestilo in razpisna dokumentacija vedno veljata.