Gesloten TED · Bron · Taal: Deutsch

Duitsland · Industriële machines

Officiële titel · Deutsch

CMP Anlage

Universität Siegen · Duitsland

Bekijk aankondigingen onder deze naam

Officiële samenvatting · Deutsch

Wat wordt ingekocht?

Anlage zum Planarisieren und Glätten von Oberflächen mittels chemisch-mechanischem Polieren (CMP, chemical mechanical polishing) zur Prozessierung von bis zu 6 Zoll großen Substraten

Termijn 22 mei 2026 11:00 UTC+02:00
Geraamde waardeNiet vermeld
Gepubliceerd22 apr. 2026
Officiële aankondiging openen ↗

Historie van de aankondiging

Tijdlijn van de aanbestedingsprocedure

Volg de belangrijkste fasen en updates van deze aanbestedingsprocedure.

  1. Rectificatie Huidige aankondiging

    · TED 274500-2026

    Gewijzigde rubrieken: 1 Officiële aankondiging openen ↗
  2. Aankondiging van het resultaat

    · TED 458651-2026

    Officiële aankondiging openen ↗

De gegevens zijn voor een betere leesbaarheid geordend. De officiële aankondiging en aanbestedingsstukken zijn altijd doorslaggevend.

Bron en betrouwbaarheid

TED · 274500-2026. Gecontroleerd op 21 aug. 2026 22:05.

De gegevens zijn voor een betere leesbaarheid geordend. De officiële aankondiging en aanbestedingsstukken zijn altijd doorslaggevend.

Een fout melden per e-mail