Zadáno TED · Zdroj · Jazyk: Deutsch

Německo · Průmyslové stroje

Oficiální název · Deutsch

Clustertool for Ion Beam Etching of 300mm wafers

Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V. · Německo

Zobrazit oznámení pod tímto názvem

Oficiální shrnutí · Deutsch

Co je předmětem zakázky?

The tender item is an ion beam etching process tool to be used for 300mm wafer fabrication at the FRAUNHOFER IPMS. The systems will be used for the processing of CMOS wafers in a cleanroom class 1000 (approximately class 6 EN ISO 14644-1) production environment. Therefore, it is necessary to fulfill require-ments regarding metal contamination and particle generation compatible with industry standards.

Lhůta Neuvedeno
Předpokládaná hodnotaNeuvedeno
Zveřejněno10. 7. 2026
Otevřít oficiální oznámení ↗

Historie oznámení

Časová osa zadávacího řízení

Sledujte hlavní fáze a aktualizace spojené s tímto zadávacím řízením.

Dosud nebylo nalezeno žádné další související oznámení.

  1. Oznámení o výsledku Aktuální oznámení

    · TED 476033-2026

    Otevřít oficiální oznámení ↗

Data jsou upravena pro snazší čtení. Oficiální oznámení a zadávací dokumentace mají vždy přednost.

Zdroj a spolehlivost

TED · 476033-2026. Ověřeno 23. 8. 2026 15:05.

Data jsou upravena pro snazší čtení. Oficiální oznámení a zadávací dokumentace mají vždy přednost.

Nahlásit chybu e-mailem