Resumo oficial · English
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DTU Nanolab wishes to acquire a high ion density source reactive ion etcher for oxides and nitrides of silicon to become its new primary instrument for 150 mm wafer processing. Delivery is expected no later than Q3 2027. The Instrument will be installed in the DTU Nanolab cleanroom - a university facility providing a comprehensive suite of micro- and nanofabrication tools. It serves a diverse community of over 200 active users, ranging from novice students to experienced researchers, as well a high percentage of commercial clients. As an open access tool, the Instrument must support the full spectrum of etching of silicon-based dielectrics, from sub 100 nm nanostructures defined by electron beam lithography to depths of several tens of microns.…
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Resumo oficial · English
DTU Nanolab wishes to acquire a high ion density source reactive ion etcher for oxides and nitrides of silicon to become its new primary instrument for 150 mm wafer processing. Delivery is expected no later than Q3 2027. The Instrument will be installed in the DTU Nanolab cleanroom - a university facility providing a comprehensive suite of micro- and nanofabrication tools. It serves a diverse community of over 200 active users, ranging from novice students to experienced researchers, as well a high percentage of commercial clients. As an open access tool, the Instrument must support the full spectrum of etching of silicon-based dielectrics, from sub 100 nm nanostructures defined by electron beam lithography to depths of several tens of microns.…
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- Verificar as condições de participação e os documentos exigidos
- Verificar se é exigida uma visita ou reunião
- Analisar os critérios de adjudicação e a sua ponderação
- Verificar recursos, orçamento e calendário disponíveis
- Confirmar o procedimento e o prazo de apresentação
TED · 701524-2026. Verificado em 12 de out de 2026 11:05.
https://ted.europa.eu/en/notice/-/detail/701524-2026
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Fonte e fiabilidade
TED · 701524-2026. Verificado em 12 de out de 2026 11:05.
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