Officielt resumé · Français
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L’EPFL a l’intention d’acquérir un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi), afin de traiter aussi bien des photomasques carrés que des wafers standards, et de diverses dimensions possibles. Le CMi est une installation de salles blanches dédiée à la micro/nano fabrication, centrale pour l’ensemble des facultés de l’EPFL, ainsi que pour les industriels locaux (>650 utilisateurs actifs par an). Cet équipement sera dédié aux besoins de recherche de pointe en micro et nano fabrication, et plus particulièrement à la gravure de couches de Chrome déposées sur des masques/réticules de lithographie ainsi que sur des wafers.…
Vejledende maskinoversættelse. Det officielle resumé er fortsat gældende.
Officielt resumé · Français
L’EPFL a l’intention d’acquérir un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi), afin de traiter aussi bien des photomasques carrés que des wafers standards, et de diverses dimensions possibles. Le CMi est une installation de salles blanches dédiée à la micro/nano fabrication, centrale pour l’ensemble des facultés de l’EPFL, ainsi que pour les industriels locaux (>650 utilisateurs actifs par an). Cet équipement sera dédié aux besoins de recherche de pointe en micro et nano fabrication, et plus particulièrement à la gravure de couches de Chrome déposées sur des masques/réticules de lithographie ainsi que sur des wafers.…
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TED · 688748-2026. Kontrolleret 6. okt. 2026 11.05.
https://ted.europa.eu/fr/notice/-/detail/688748-2026
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TED · 688748-2026. Kontrolleret 6. okt. 2026 11.05.
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