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Duitsland · Laboratorium-, optische en precisieapparatuur

Officiële titel · Deutsch

Chemisch-mechanische Poliermaschine

Friedrich-Schiller-Universität Jena · Duitsland

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Officiële samenvatting · Deutsch

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich…

Wat wordt ingekocht?
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Gepubliceerd30 okt. 2026
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Officiële samenvatting · Deutsch

Wat wordt ingekocht?

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2 Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto von der Wertung auszuschließen. Liegen alle Angebote über dieser Grenze, ist die Vergabestel-le berechtig die Ausschreibung aufzuheben.

Historie van de aankondiging

Tijdlijn van de aanbestedingsprocedure

Volg de belangrijkste fasen en updates van deze aanbestedingsprocedure.

  1. Aankondiging van opdracht

    · TED 618476-2026

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  2. Aankondiging van het resultaat Bekeken aankondiging

    · TED 752830-2026

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Bron en betrouwbaarheid

TED · 752830-2026. Gecontroleerd op 30 okt. 2026 11:05.

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