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Saksamaa · Labori-, optika- ja täppisseadmed

Ametlik pealkiri · Deutsch

Chemisch-mechanische Poliermaschine

Friedrich-Schiller-Universität Jena · Saksamaa

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Ametlik kokkuvõte · Deutsch

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich…

Mida hangitakse?
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Avaldatud30. okt 2026
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Ametlik kokkuvõte · Deutsch

Mida hangitakse?

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2 Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto von der Wertung auszuschließen. Liegen alle Angebote über dieser Grenze, ist die Vergabestel-le berechtig die Ausschreibung aufzuheben.

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  1. Hanketeade

    · TED 618476-2026

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  2. Parandusteade

    · TED 718171-2026

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  3. Tulemusteade Vaadatav teade

    · TED 752830-2026

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Allikas ja usaldusväärsus

TED · 752830-2026. Kontrollitud 30. okt 2026 11:05.

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