Officiell sammanfattning · Deutsch
Vad upphandlas?
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.
Källa och tillförlitlighet
Källa: officiellt TED-meddelande 551042-2026, senast kontrollerat 21 aug. 2026 20:07. Originalpubliceringen är fortsatt styrande.
Uppgifterna har strukturerats om för att bli lättare att läsa. Det officiella meddelandet och upphandlingsdokumenten gäller alltid.