Σύνοψη ευκαιρίας
Τι αποτελεί αντικείμενο της σύμβασης;
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.
Πηγή και αξιοπιστία
Πηγή: επίσημη προκήρυξη TED 551042-2026, τελευταίος έλεγχος: 21 Αυγ 2026, 8:07 μ.μ.. Η αρχική δημοσίευση παραμένει καθοριστική.
Τα δεδομένα έχουν αναδιαρθρωθεί για ευκολότερη ανάγνωση. Η επίσημη προκήρυξη και τα έγγραφα της σύμβασης υπερισχύουν πάντα.