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Alemania · Equipos de laboratorio, ópticos y de precisión

Título oficial · Deutsch

Chemisch-mechanische Poliermaschine

Friedrich-Schiller-Universität Jena · Alemania

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Resumen oficial · Deutsch

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich…

¿Qué se contrata?
Plazo 20 oct. 2026 10:00 UTC+02:00
Valor estimadoNo indicado
Publicado16 oct. 2026
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¿Qué se contrata?

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2 Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto von der Wertung auszuschließen. Liegen alle Angebote über dieser Grenze, ist die Vergabestel-le berechtig die Ausschreibung aufzuheben.

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  3. Comprobar si se exige una visita o reunión
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  5. Comprobar los recursos, el presupuesto y el calendario disponibles
  6. Confirmar el procedimiento y el plazo de presentación

TED · 718171-2026. Verificado el 16 oct. 2026 11:05.
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  1. Anuncio de licitación

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