Amtliche Zusammenfassung
Was wird beschafft?
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2 Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto von der Wertung auszuschließen. Liegen alle Angebote über dieser Grenze, ist die Vergabestel-le berechtig die Ausschreibung aufzuheben.
Vorbereitungscheckliste
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Prüfpunkte für die offiziellen Unterlagen. Dieser Leitfaden ist keine automatische Dokumentenanalyse.
- Vollständige Unterlagen und Änderungen lesen
- Teilnahmebedingungen und verlangte Nachweise prüfen
- Prüfen, ob eine Besichtigung oder Besprechung erforderlich ist
- Zuschlagskriterien und Gewichtung prüfen
- Verfügbare Mittel, Budget und Zeitplan prüfen
- Einreichungsverfahren und Frist bestätigen
TED · 618476-2026. Geprüft am 11.09.2026, 06:05.
https://ted.europa.eu/de/notice/-/detail/618476-2026
Bekanntmachungsverlauf
Zeitlicher Ablauf des Vergabeverfahrens
Verfolgen Sie die wichtigsten Phasen und Aktualisierungen dieses Vergabeverfahrens.
Bisher wurde keine weitere zugehörige Bekanntmachung ermittelt.
Die Daten werden für eine leichtere Lesbarkeit neu strukturiert. Maßgeblich sind stets die amtliche Bekanntmachung und die Vergabeunterlagen.
Quelle und Verlässlichkeit
TED · 618476-2026. Geprüft am 11.09.2026, 06:05.
Die Daten werden für eine leichtere Lesbarkeit neu strukturiert. Maßgeblich sind stets die amtliche Bekanntmachung und die Vergabeunterlagen.