Amtliche Zusammenfassung
Was wird beschafft?
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2 Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto von der Wertung auszuschließen. Liegen alle Angebote über dieser Grenze, ist die Vergabestel-le berechtig die Ausschreibung aufzuheben.
Bekanntmachungsverlauf
Zeitlicher Ablauf des Vergabeverfahrens
Verfolgen Sie die wichtigsten Phasen und Aktualisierungen dieses Vergabeverfahrens.
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Berichtigungsbekanntmachung
· TED 718171-2026
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Bekanntmachung vergebener Aufträge
· TED 752830-2026
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Die Daten werden für eine leichtere Lesbarkeit neu strukturiert. Maßgeblich sind stets die amtliche Bekanntmachung und die Vergabeunterlagen.
Quelle und Verlässlichkeit
TED · 618476-2026. Geprüft am 11.09.2026, 06:05.
Die Daten werden für eine leichtere Lesbarkeit neu strukturiert. Maßgeblich sind stets die amtliche Bekanntmachung und die Vergabeunterlagen.