Oficiali santrauka · Română
Kas perkama?
Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) cu plasmă cuplată inductiv, numit în continuare Sistem de gravură ICP-RIE, va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂).
Informacinis mašininis vertimas. Oficialiai santraukai ir toliau teikiama pirmenybė.
Oficiali santrauka · Română
Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) cu plasmă cuplată inductiv, numit în continuare Sistem de gravură ICP-RIE, va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂).
Skelbimo istorija
Pirkimo procedūros laiko juosta
Sekite pagrindinius šios pirkimo procedūros etapus ir atnaujinimus.
Duomenys pertvarkyti, kad būtų lengviau skaityti. Oficialus skelbimas ir pirkimo dokumentai visada turi pirmenybę.
Šaltinis ir patikimumas
TED · 397891-2026. Patikrinta 2026-08-22 21:05.
Duomenys pertvarkyti, kad būtų lengviau skaityti. Oficialus skelbimas ir pirkimo dokumentai visada turi pirmenybę.