Hivatalos összefoglaló · Română
Mi a beszerzés tárgya?
Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) cu plasmă cuplată inductiv, numit în continuare Sistem de gravură ICP-RIE, va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂).
Tájékoztató gépi fordítás. A hivatalos összefoglaló az irányadó.
Hivatalos összefoglaló · Română
Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) cu plasmă cuplată inductiv, numit în continuare Sistem de gravură ICP-RIE, va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂).
A hirdetmény előzményei
A közbeszerzési eljárás idővonala
Kövesse a közbeszerzési eljáráshoz kapcsolódó főbb szakaszokat és frissítéseket.
Az adatokat a könnyebb olvashatóság érdekében átrendezzük. Mindig a hivatalos hirdetmény és a közbeszerzési dokumentumok az irányadók.
Forrás és megbízhatóság
TED · 285723-2026. Ellenőrizve: 2026. aug. 21. 22:06.
Az adatokat a könnyebb olvashatóság érdekében átrendezzük. Mindig a hivatalos hirdetmény és a közbeszerzési dokumentumok az irányadók.